Introduction to Particle Contamination Monitoring in the Semiconductor Fab Environment
파티클 오염은 수율 손실과 품질 문제의 주요 원인이므로, 높은 생산성을 유지하고 Defect을 최소화하기 위해 파티클 측정기가 필수적입니다.
파티클 오염은 수율 손실과 품질 문제의 주요 원인이므로, 높은 생산성을 유지하고 Defect을 최소화하기 위해 파티클 측정기가 필수적입니다.
NanoAir는 생산 프로세스를 개선하기 위해 10nm까지 입자를 감지할 수 있는 새로운 실시간 기술을 사용합니다. 이 기술은 또한 칩 제조에 사용되는 가스의 청결성을 검증하는 데 사용할 수 있습니다.