반도체 산업이 기술 발전을 주도함에 따라 critical particle size는 계속해서 작아지고 있습니다. 이러한 발전에 발맞춰 파티클 오염 모니터링을 위한 솔루션이 필요합니다. 웨이퍼 제조 중에 많은 공정 장비를 통과하는데, 기존 계측 기술이 Real time event에 반응하기에는 너무 느립니다. 그러므로 웨이퍼 표면에서의 Real time 모니터링이 필요합니다.

향상된 기술을 통해 10nm 사이즈의 파티클 이슈를 빠르고 정확하게 감지하여 웨이퍼 취급 및 개발 기술을 개선할 수 있습니다. 나노 파티클 측정을 위해 설계된 에어로졸 파티클 카운터를 사용하여 공정상에 발생하는 파티클 오염 검출을 완벽하게 구현할 수 있습니다. 또한, 이 기술은 반도체 산업에 공급되는 대량 가스의 Cleanliness를 검증하고 제어하는 데 적용할 수 있습니다.