Particle Measuring Systems는 50년 이상 반도체 산업에서 파티클 측정 기술 분야를 선도해 왔으며, 파티클 검출을 위한 광학 Light scattering 분야의 핵심 특허를 보유하고 있습니다. 이번 웨비나는 최신 반도체 제조 공정에서 파티클 측정기, 작동 방식, 그리고 핵심 응용 분야에 대한 포괄적인 개요를 제공합니다. 반도체 산업에 종사하고 있는 신입사원이나 파티클 측정 관련 지식을 새롭게 익히고자 하는 분들에게 이상적인 웨비나입니다.

파티클 오염은 수율 손실과 품질 문제의 주요 원인이므로, 높은 생산성을 유지하고 Defect을 최소화하기 위해 파티클 측정기가 필수적입니다. 본 프레젠테이션에서는 파티클 측정기의 기본 원리, 작동 원리, 그리고 에어로졸 샘플링, 클린룸 모니터링, 화학물질 분석, 초순수(UPW) 모니터링과 같은 주요 응용 분야에서의 활용에 대해 살펴봅니다.